Authors: Anil O Yalcin, Bart de Nijs, Zhaochuan Fan, Frans D Tichelaar, Daniël Vanmaekelbergh, Alfons van Blaaderen, Thijs J H Vlugt, Marijn A van Huis, Henny W Zandbergen
Journal: Nanotechnology
DOI: https://doi.org/10.1088/0957-4484/25/5/055601